標準型磁控濺射臺

詳細描述


本產品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬,單層、多層膜。它具有均勻性好、濺射速率高、基片升溫低、靶材節省等特點。

本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發和制造。



產品主要性能指標


本產品可在硅片、塑料、陶瓷、玻璃、石英、Ⅲ-Ⅴ族化合物及金屬等材料表面鍍制AI、Au、Cr、Ti、Ni、Cu、W、SiO2、各種金屬、非金屬,單層、多層膜。它具有均勻性好、濺射速率高、基片升溫低、靶材節省等特點。 本設備主要用于微電子、光電子、通訊、微機械等領域的器件研發和制造。

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